レーザー溶着はあらゆる分野、あらゆるアプリケーションに適しています。どのアプリケーションにも最適なソリューションを提供できるよう、ライスターではさまざまなコンセプトを開発しています。それにより、このプロセスの潜在能力がどのケースでも十分に生かされ、使用できるようになります。ライスターは軌跡溶着、同時溶着、疑似同時溶着そしてマスク溶着のシステムを提供しています。最新のライスターの開発で、お客様の革新製品も促進します。ラジアル溶着では、部品を回転せずに、円筒形の回転対称部品を接合します。さらに、ライスターが開発したGLOBO 加圧コンセプトにより、初めて三次元のレーザー溶着が可能となりました。

三次元溶着のほか、この方法では広い面積で二次元溶着をすることも可能です。二次元の範囲ではまた、溶着ラインの幅が広い直線状の溶着も使用できます。それにはローラー溶着が適しています。 

回析光学素子 (DOE) と呼ばれる特殊な光学素子がレーザー溶着プロセスでは調節できます。これらの光学系が軌跡溶着、疑似同時溶着、または同時溶着で使用されます。スポット状のレーザービームにより、アプリケーションに応じたパワー密度分布を作り出します。